Associazione Italiana
per la
Ricerca Industriale

TORINO, 12 e 13 maggio 2004

Programma e presentazioni del workshop

Mercoledì 12 Maggio 2004

Metrologia delle superfici / Surface Metrology

10.20 Apertura lavori / Opening remarks
Elvio Mantovani - Direttore Nanotec IT

10.30 Introduzione / Introduction
Attilio Sacconi - Direttore IMGC-CNR

10.40 Invited talk
Surface metrology: from precision machining down to nanoscale and molecular self-assembled surfaces
Kim Carneiro - Director of the Danish Institute of Fundamental Metrology (DFM), former President of EUSPEN

Sessione 1
Esigenze di misura di dimensioni critiche a scala micro/nanometrica
Needs of Critical  Dimensions (CD) measurements at the micro/nano scale

Coordinatore: A.Sacconi - IMGC-CNR

11.40 Controllo di dimensioni critiche nella fabbricazione (nanoscala) di ottiche integrate
CD control in integrated optics nanoscale manufacturing
Massimo Gentili - Pirelli Labs

12.00 Nuovi sviluppi nei dispositivi elettronici: importanza ed esigenze di caratterizzazioni dimensionali alla micro e nanoscala
New perspectives in electronic devices: importance and needs in dimensional characterizations at micro/nano scale levels
Sabrina Conoci - STMicroelectronics

12.20 Materiali mesoscopici e nanostrutture: morfologia, proprietà ed analisi
Mesoscopic materials and nanostructures: morphology, properties and analysis
Nello Li Pira - Centro Ricerche Fiat

12.40 Metrologia per i dispositivi ad elettronica singolare, elettronica singolare per la metrologia
Metrology for single electron devices, single electron devices for metrology
Maria Gabriella Castellano - CNR-IFN

13.00 Pausa pranzo

Sessione 2
Tecniche, metodi di misura e campioni
Standards and measurement techniques

Coordinatore: M. Gentili - Pirelli Labs

14.20 Microscopia a sonda e nanometrologia
Probe microscopy at APE Research
Marco Peloi - APE Research

14.30 A metrological SPM for dimentional surface measurements
Alberto Pasquini - IMGC-CNR

14.40 Microscopia ottica interferometrica per la caratterizzazione delle superfici
Surface height mapping by optical microscope interferometry
Giuseppe Molesini - CNR-INOA

15.00 Spettromicroscopia confocale multifotone: un nuovo nanosensore ottico
Multiphoton confocal spectro-microscopy: a new optical nanoprobe
Michele Muccini - CNR-ISMN

15.20 Ellissometria spettroscopica: uno strumento per monitorare in tempo reale e su scala nanometrica i trattamenti di superfici
Spectroscopic ellipsometry: a tool for the real time monitoring at the nanoscale of surface processing
Gianni Bruno - CNR-CSCP

15.40 Misura interferometrica della macroforma superficiale e strutturale
Interferometric measurement of surface and structure macroform
Maurizio Vannoni - CNR-INOA

16.00 Coffee break

Sessione 3
Metodi di misura e campioni
Standards and Measurement Techniques

Coordinatore: M.G. Castellano - CNR-IFN

16.30 Diffrattometria e scatterometria ottica per misure di dimensioni critiche di strutture periodiche
Optical diffractometry and scatterometry for CD measurements of periodical structures
Marco Pisani - IMGC-CNR

16.50 Morfologia ed immagini ad alta risoluzione di superfici di ossidi nanostrutturati mediante microscopie HRTEM, SEM e AFM
High resolution and large scale imaging in nanostructured oxides as obtained by HRTEM, SEM and AFM
Domenica Scarano - Università di Torino

17.10 Attivazione di dimetilcarbonato in zeoliti scambiate con ioni alcalini: uno studio spettroscopico
Dimethyl Carbonate activation by alkaline cations exchanged zeolites: a spectroscopic study
Silvia Bordiga - Università di Torino

17.30 Micro e nanodispositivi per la metrologia elettrica: metodi di caratterizzazione e prospettive di impiego
Micro and nanodevices for the electrical metrology: characterization methods and perspective applications
Vincenzo Lacquaniti - IEN

17.50 Discussione

18.30 Chiusura lavori prima giornata:
E.Mantovani - Nanotec IT

Giovedì 13 Maggio 2004

Metrologia a scala atomica / Atomic Scale Metrology

9.30 Apertura lavori / Opening remarks
Elvio Mantovani - Nanotec IT

9.40 Invited talk
Atomic scale metrology in the bridge from top-down to bottom-up methods
Guenter Wilkening - Head of Nano and Micrometrology Division, PTB, Germany

Sessione 4
Metodi top-down e bottom-up
Top-down and bottom-up methods

Coordinatore: G. Molesini - CNR-INOA

10.40 La nanolitografia come strumento per il controllo metrologico di materiali/strutture artificiali
Nanolitography as a mean to precise metrological control of artificial material
Enzo Di Fabrizio - Laboratorio LILIT, TASC/INFM

11.00 Autoallineamento e posizionamento nei processi per i nanotubi al carbonio: metodi top-down e bottom-up
Self-alignment and location control in the processing of carbon nanotubes: the bottom-up and the top-down approaches
Vincenzo Vinciguerra - STMicroelectronics

11.20 Coffee break

11.50 Reticoli molecolari e nanostrutture: controllo delle strutture nelle scale tra il nanometro e il centimetro
Molecular patterns and nanostructures: control of the organisation at length scales ranging from nanometer to cm
Fabio Biscarini CNR-ISMN

12.10 Sensori per nanoposizionamento: applicazioni nella microscopia a sonda
Probes for the nanopositioning: applications in scanning probe microscopy
Massimo Bressanutti - APE Research

12.30 Modificazioni alla nanoscala di superfici di diamante con la microscopia a forza atomica
Nano-modification of diamond surface using atomic force microscope
Chiara Paolini - Università di Torino

12.50 Il drogaggio di semiconduttori nanostrutturati: misure elettriche e prospettive per la Nanoelettronica
Doping of nanostructured semiconductors: electrical measurements and perspectives for the Nanoelectronics
Giampiero Amato - IEN

13.10 Pausa pranzo

Sessione 5
Interferometria e nanometrologia
Interferometry and nanometrology

Coordinatore: E. Di Fabrizio TASC/INFM

14.40 Metrologia degli spostamenti alla scala atomica per mezzo di interferometria X-ottica
Atomic-scale displacement metrology by means of combined optical and X-ray interferometry
Giovanni Mana - IMGC-CNR

15.00 Analisi e metodi di compensazione della non-linearità ottica nell'interferometria laser
Analysis and compensation of the optical non-linearity in laser interferometry
Gian Bartolo Picotto - IMGC-CNR